After Effects, 3D 워크플로우 강화 및 최신 마스킹 기능 업데이트 공개

Adobe는 NAB에서 After Effects의 3D 워크플로우 강화와 최신 마스킹 기능 업데이트를 발표했다.

Substance 3D 머티리얼(SBSAR) 네이티브 지원

After Effects가 Substance 3D의 범용 머티리얼 형식인 ‘SBSAR’을 네이티브로 지원하게 되었다. 이를 통해 Substance 3D Assets 등에서 가져온 고품질 3D 머티리얼을 After Effects 내 3D 모델에 직접 적용할 수 있게 되었다.

레이어 메뉴에서 ‘Substance 커뮤니티 에셋 가져오기’를 선택하면 방대한 무료 머티리얼 라이브러리에 즉시 접근할 수 있다. 적용된 머티리얼은 After Effects 내에서 세밀하게 커스터마이징이 가능하며, 예를 들어 타일의 색상을 파란색에서 녹색으로 변경하는 등의 파라미터 조정도 소프트웨어 내에서 완결된다.

AI 기반 고정밀 객체 선택 및 마스킹

마스킹 기능에는 새롭게 ‘객체 매트 도구’가 추가되었다. 기존 로토스코핑 기능을 더욱 발전시킨 것으로, 피사체에 커서를 가져다 대기만 해도 AI가 객체의 경계를 인식하여 하이라이트 표시한다.

대상을 선택하고 실행하면 AI가 전후 프레임을 포함하여 자동으로 트래킹을 수행한다. 복잡한 장면에서도 인식 정확도가 높으며, 피사체 앞을 다른 인물이 지나가는 상황에서도 대상을 유지한 채로 추적할 수 있는 점이 특징이다.

객체 매트와 함께 활용하면 좋은 것이 진화한 ‘엣지 조정 도구(Refine Edge)’이다. 기존의 단색 마스크 경계와 달리, 머리카락과 같은 미세하고 복잡한 디테일도 자연스럽게 잘라내는 것이 가능해졌다.